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Strike 20 旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀可應(yīng)用于工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室,所有與蒸汽和液體接觸部件均采用硼硅玻璃或PTFE 材質(zhì),幾乎可以適用任何物料。可以把易揮發(fā)性成分(低沸點(diǎn))從剩余的高沸點(diǎn)物料中分離出來(lái)。真空度可以達(dá)到8mbar,加熱浴槽*高溫度150℃,3kw 加熱功率。
加熱浴槽
加熱槽通過(guò)一個(gè)液壓系統(tǒng),在斷電的情況下會(huì)自動(dòng)下降,以避免被分離樣品過(guò)熱。
密封系統(tǒng)
Strike 20 的特點(diǎn)就是它的密封系統(tǒng),采用免維護(hù)材料, 形成一個(gè)**的真空密封體系,該密封系統(tǒng)不需要任何維護(hù)。
壓力和溫度
Strike 20 可以在常壓或真空條件下運(yùn)行, 真空度可以達(dá)到8mbar。減少了樣品的處理時(shí)間, 適用于在低蒸發(fā)溫度下提取組分。恒溫槽介質(zhì)可使用水或?qū)嵊停瑴囟瓤蛇_(dá)150℃;它也允許任何溶劑蒸發(fā)。加熱浴槽提供兩3kw 的電加熱器。
通過(guò)觸摸屏可對(duì)以下參數(shù)進(jìn)行測(cè)量,顯示和控制
* 加熱浴槽設(shè)置溫度和實(shí)際溫度
* 蒸汽設(shè)定溫度和實(shí)際溫度
* 蒸發(fā)瓶旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定值和實(shí)際值
* 真空度設(shè)定值和實(shí)際值 (已標(biāo)標(biāo)配了真空控制器
應(yīng)用范圍
* 蒸餾(連續(xù)和間歇) |
應(yīng)用領(lǐng)域
* 制藥 |
Measurement, display and data recording of the following Parameters:
* Set and actual temperature value of the bath
* Set and actual vapour temperature value
* Set and actual rotation speed value of the evaporation flask
* Set and actual vacuum value (vacuum controller included as 支架ard)
技術(shù)指標(biāo)
加熱浴槽 |
|
溫度范圍 ℃ |
室溫~150 |
溫度精度 ℃ |
±2 |
分辨率 ℃ |
0.1 |
溫度設(shè)置 |
可設(shè)置 (1℃ 增減) |
溫度控制方式 |
PID |
溫度波動(dòng)度 ℃ |
±3 |
加熱功率 kW |
3 |
加熱器功率/ 密度 |
≤3W / cm2 |
過(guò)溫保護(hù)功能 |
√ |
溫度傳感器 |
PT100 |
液位 |
手動(dòng) |
蒸發(fā)溫度 |
|
溫度范圍 ℃ |
室溫 ... 150 |
溫度精度 ℃ |
±2 |
分辨率 ℃ |
0.1 |
溫度傳感器 |
PT100 |
轉(zhuǎn)速 |
|
轉(zhuǎn)速范圍 Rpm |
10~150 |
轉(zhuǎn)速精度 Rpm |
±2 |
實(shí)際轉(zhuǎn)速顯示 |
√ |
轉(zhuǎn)速分辨率 Rpm |
1 |
真空控制 |
|
真空范圍 mbar |
8~ 常壓 |
真空精度 mbar |
±5mbar |
真空分辨率 mbar |
1 |
實(shí)際真空值顯示 |
√ |
顯示方式 |
數(shù)字顯示 |
真空值設(shè)定 |
√ |
升降支架 |
|
開(kāi)/ 關(guān) |
√ |
電動(dòng) |
√ |