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簡單介紹:
高真空磁控濺射鍍膜機 沈陽-托帕 CK400
詳情介紹:
設(shè)備名稱 | 品牌廠商 | 型號 | 是否標(biāo)配 | 規(guī)格 | 數(shù)量 | 報價類型 | 售后服務(wù) | 成交價 |
高真空磁控濺射鍍膜機 | 沈陽-托帕 | CK400 | 是 | 1.系統(tǒng)主要由濺射室、永磁磁控濺射靶(三個靶)、直流電源、全自動調(diào)諧射頻電源、樣品臺、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成。 2.濺射室極限真空度:≤6.6x10-5?Pa (經(jīng)連續(xù)烘烤除氣后);? 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室40分鐘可達(dá)到6.6x10-4?Pa; 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度:≤5Pa 3.真空室為D型手動前開門結(jié)構(gòu),腔體打開方式采用手動前開門結(jié)構(gòu),表面進行電化學(xué)鈍化處理 4.濺射室中配有3套60高性能永磁共焦磁控濺射靶(濺射靶角度可調(diào)),各靶可獨立/順次/共同工作,磁控靶通水冷卻,磁控靶配有氣動擋板結(jié)構(gòu)。 5.系統(tǒng)配有500W直流電源2臺,500W全自動調(diào)諧射頻電源1臺 6.加熱旋轉(zhuǎn)樣品臺可放置一片樣品,?具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—20轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào),可加溫至500℃。 7.系統(tǒng)配有氣體質(zhì)量流量控制進氣系統(tǒng) 。 8.安裝臺架:整個設(shè)備安放在一個用承載式標(biāo)準(zhǔn)電箱上,箱體均進行噴塑處理。拆卸方便占地小 9、提供冷卻水循環(huán) | 1.0 |
國內(nèi)含稅價; 人民幣 |
189800 |