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產品詳情

  • 產品名稱：多靶磁控濺射鍍膜設備

  • 產品型號：SMS-400
  • 產品廠商：其它品牌
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簡單介紹：
SMS-400多靶磁控濺射鍍膜設備
詳情介紹：

SMS-400多靶磁控濺射鍍膜設備  ￥215000


真空腔室：L400×W400×H450mm（1Cr18Ni9Ti 上等不銹鋼），立式方形結構，前開門結構，方便取、放基片、更換靶材以及真空腔室日常維護；采用304上等不銹鋼，所有焊縫連接均采用氬弧自動焊接技術，焊接完成后，鍍膜腔室（包括抽氣管道、連接法蘭等）均進行內表面拋光處理，以減少“出氣”量，有利于真空度的提高及耐腐蝕；
樣品臺：尺寸210×210mm，可旋轉：0-20r/min可調，配有氣動基片臺擋板,可從室溫加熱至300℃；可選配偏壓清洗功能；
真空系統：采用機械泵真空系統（RV8，8L/s），真空極限可達5.0×10^-1Pa（加熱烘烤條件下）；真空測量采用單電阻真空計；
濺射靶：Φ4英寸2只（含靶擋板），靶角度及靶基距可調，各靶均有水冷（1P），保證各靶長時間穩定工作，兼容直流/射頻電源濺射；
濺射電源：2臺1000W全自動匹配射頻濺射電源；
質量流量計：100sccm、50sccm 質量流量控制器各1套；
控制方式：采用PLC+觸摸屏全自動控制系統；
前級閥：GDQ-40b 氣動擋板閥；進氣閥：Φ6mm，電磁截止閥；放氣閥： Φ10mm，電磁截止閥；靶材：銅靶材Φ4英寸
報警及保護：對泵、磁控靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統

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